6 月 15 日,SemiAnalysis STEEL 实验室发布报告对华为 Mate 80 Pro 搭载的麒麟 9030 Pro 进行深度拆解,确认其采用中芯国际 N+3 制程,最小金属间距仅 32.5nm,较 Intel 18A 的 36nm 紧约 10%。通过激进 DUV 多重图案化+DTCO 优化,N+3 实现了与 TSMC N6 相当的逻辑密度(约 113.4 MTr/mm²,略高于 N6 的 107.7),但代价是工艺复杂度更高、成本和良率控制更难。
麒麟 9030 Pro 芯片架构与性能提升,其为麒麟 9020 的演进版,die 面积相近但利用率更高:增加 1 个中核、GPU CU 从 4 增至 6、NPU Tiny 核增加,并扩大缓存。CPU/GPU/NPU 核心面积缩小明显(中核缩 22%、GPU CU 缩 28%),性能较前代提升显著(GPU 3DMark 提升 70-79%),但整体仍落后当前旗舰(苹果、骁龙 8 Elite 等),能效差距更大,接近 3 年前 Android 旗舰水平。
SemiAnalysis 报告指出,出口管制未阻止中国推进先进制程,但迫使中芯国际走更复杂的 DUV 路线,未来将依赖更紧设计规则、背面供电及华为的 LogicFolding 堆叠技术。N+3 展示了中国半导体产业韧性,但与领先节点仍有代差,成熟度与成本是主要限制。
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